40px
80px
80px
80px
การอบอ่อนด้วยเลเซอร์ที่มีความแม่นยำสูงเป็นพิเศษสำหรับการผลิตชิปขั้นสูง การกระจายพลังงานอย่างสม่ำเสมอช่วยให้การบำบัดแผ่นเวเฟอร์มีความสม่ำเสมอ กระบวนการแบบไม่สัมผัสช่วยป้องกันความเสียหายต่อพื้นผิวของสารกึ่งตัวนำ ระบบปรับเทียบอัตโนมัติสามารถปรับให้เข้ากับข้อกำหนดต่างๆ ของเวเฟอร์ได้
อีเมลมากกว่า
40px
80px
80px
80px