อุปกรณ์แกะสลักเลเซอร์และทำความสะอาดขอบสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง
ระบบนี้ถือเป็นเครื่องมือความแม่นยำหลักในการผลิตโฟโตโวลตาอิกแบบฟิล์มบาง โดยผสานเทคโนโลยีเลเซอร์ที่มีความแม่นยำสูงเข้ากับระบบควบคุมอัจฉริยะที่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการสร้างรูปแบบเซลล์และกระบวนการแยกขอบ
ข้อได้เปรียบการทำงานหลัก:
การสร้างรูปแบบความแม่นยำ: บรรลุการแบ่งส่วนวงจรระดับไมครอนบนพื้นผิวฟิล์มบางผ่านพลังงานเลเซอร์ที่ได้รับการปรับให้เหมาะสมและการควบคุมความเร็วการสแกน ช่วยให้มั่นใจได้ว่าเส้นจารึกจะสม่ำเสมอและมีสภาพนำไฟฟ้าที่เสถียรเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการแปลงพลังงานโดยตรง
การเพิ่มประสิทธิภาพขอบ: ดำเนินการกำจัดวัสดุส่วนเกินรอบข้างในระดับไมครอน กำจัดเสี้ยนและสิ่งปนเปื้อนเพื่อรับประกันความสม่ำเสมอของมิติสำหรับกระบวนการเคลือบในภายหลัง
ความสามารถในการปรับตัวทางเทคนิค:
• เข้ากันได้กับวัสดุฟิล์มบางหลากหลายชนิด (เพอรอฟสไกต์, ซีดีทีอี เป็นต้น)
• การประมวลผลแบบไม่สัมผัสช่วยป้องกันความเสียหายจากความเครียดเชิงกล
• การทำงานต่อเนื่องความเร็วสูง (สูงสุด 3 เมตร/วินาที) ตอบสนองความต้องการการผลิตจำนวนมาก
เนื่องจากเป็นอุปกรณ์หลักสำหรับการผลิต พีวี แบบฟิล์มบาง จึงสามารถปรับปรุงคุณภาพของผลิตภัณฑ์ (ประสิทธิภาพเพิ่มขึ้นสัมบูรณ์ ＞0.5%) และปริมาณงาน (ผลผลิตเพิ่มขึ้น 30%) ได้อย่างมีนัยสำคัญ
